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HIWIN晶圆移载系统EFEM:整合Load Port与机器人,洁净度Class 1,实测破片率降低60%,破解先进制程微污染难题

作者:超级管理员    发布时间:2026-07-14 07:11:11

在半导体先进制程向2nm及以下节点冲刺的当下,晶圆传输环节的微振动与微污染控制已成为影响良率的关键变量。作为全球少数能够垂直整合传动元件与系统方案的制造商,HIWIN集团(上银科技与大银微系统)针对晶圆厂前段与封装段的全流程需求,提供了从核心部件到整机系统的完整自动化解决方案。

HIWIN晶圆移载系统EFEM:整合Load Port与机器人,洁净度Class 1,实测破片率降低60%,破解先进制程微污染难题.png 

一、晶圆传输核心模组的量化指标

围绕晶圆装卸、移载与定位三大核心环节,HIWIN的关键模组在客户端积累了明确的性能数据:

 

Load Port(晶圆装卸机):作为晶圆进出设备的第一道关口,HLP系列支持8吋与12吋FOUP/FOSB共用,洁净度等级达到Class 1,并已通过SEMI-S2安全认证。其选配的E84通讯与RFID感测功能,能确保载具在高速对接时的状态感知与信息追溯。

 

Wafer Robot(晶圆机器人):全系列采用高刚性直驱马达(DD Motor),搭配自制滚珠丝杠与直线导轨,重复定位精度稳定在±0.1mm。在12吋晶圆厂的实际搬运中,配合末端执行器的优化,实测可降低破片率高达60%,并支持Class 1洁净环境。

 

Aligner(晶圆寻边器):用于晶圆预对准,其光学与运动控制模组可实现中心重复精度±0.1mm,Notch角度重复精度±0.2°,寻边时间小于5.9秒,为后续光刻或检测工艺提供精准的晶圆姿态基准。

 

二、系统级整合方案:EFEM与面板级封装(PLP)

除单机外,HIWIN的差异化价值在于EFEM(晶圆移载系统)的整机整合能力。该系统将Load Port、Robot、Aligner及控制系统垂直整合,支持弹性选配Wafer ID读取、凸片检知、FFU(风机过滤单元)等周边。

 

针对下一代面板级封装(PLP)需求,HIWIN已推出适用于510mm x 515mm及600mm x 600mm基板的专用EFEM方案。该方案需应对基板更重(<10kg)、翘曲更大(<±12mm)的挑战,其大尺寸Robot与夹持式末端执行器为此进行了专项优化,重复精度仍能控制在±0.1mm以内。

 

三、垂直整合带来的客制化优势

纵观半导体设备的严苛要求(如CMP设备端面跳动需±2μm、光刻设备动态Yaw<0.3 arc-sec),HIWIN的竞争力源于其从滚珠丝杠、直线导轨、直驱电机到控制系统全部自研自制的产业链深度。这使得在面对客户特殊的Z轴行程、翻转功能或抗静电牙叉需求时,能够实现快速客制化响应,而无需依赖外部供应商的配合。

 

如需获取针对您制程节点的EFEM配置方案与晶圆机器人选型建议,请联系技术工程师:15250417671,或访问官网 https://www.dakaow.com 提交具体工况参数。


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